টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্যবস্তু

টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্যবস্তু

টংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি বিভিন্ন আধুনিক প্রযুক্তিগত অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। এই লক্ষ্যগুলি স্পুটারিং প্রক্রিয়ার একটি অপরিহার্য অংশ, যা ইলেকট্রনিক্স, সেমিকন্ডাক্টর এবং অপটিক্সের মতো শিল্পে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

টাংস্টেনের বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে স্পুটারিং লক্ষ্যগুলির জন্য একটি আদর্শ পছন্দ করে তোলে। টংস্টেন তার উচ্চ গলনাঙ্ক, চমৎকার তাপ পরিবাহিতা এবং কম বাষ্প চাপের জন্য পরিচিত। এই বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে উল্লেখযোগ্য অবক্ষয় ছাড়াই স্পুটারিং প্রক্রিয়ার সময় উচ্চ তাপমাত্রা এবং শক্তিশালী কণার বোমাবর্ষণ সহ্য করার অনুমতি দেয়।

ইলেকট্রনিক্স শিল্পে, টাংস্টেন স্পটারিং টার্গেটগুলি সমন্বিত সার্কিট এবং মাইক্রোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস তৈরির জন্য সাবস্ট্রেটগুলিতে পাতলা ফিল্ম জমা করতে ব্যবহৃত হয়। স্পুটারিং প্রক্রিয়ার সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ জমা হওয়া ফিল্মগুলির অভিন্নতা এবং গুণমান নিশ্চিত করে, যা ইলেকট্রনিক উপাদানগুলির কার্যকারিতা এবং নির্ভরযোগ্যতার জন্য গুরুত্বপূর্ণ।

উদাহরণস্বরূপ, ফ্ল্যাট-প্যানেল ডিসপ্লে তৈরিতে, স্পুটারিং টার্গেট ব্যবহার করে জমা করা টাংস্টেন পাতলা ফিল্মগুলি ডিসপ্লে প্যানেলের পরিবাহিতা এবং কার্যকারিতাতে অবদান রাখে।

সেমিকন্ডাক্টর সেক্টরে, টাংস্টেন আন্তঃসংযোগ এবং বাধা স্তর তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়। পাতলা এবং কনফর্মাল টংস্টেন ফিল্ম জমা করার ক্ষমতা বৈদ্যুতিক প্রতিরোধ কমাতে এবং ডিভাইসের সামগ্রিক কর্মক্ষমতা বাড়াতে সাহায্য করে।

অপটিক্যাল অ্যাপ্লিকেশনগুলিও টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি থেকে উপকৃত হয়। টংস্টেন আবরণগুলি আয়না এবং লেন্সের মতো অপটিক্যাল উপাদানগুলির প্রতিফলন এবং স্থায়িত্ব উন্নত করতে পারে।

টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্যগুলির গুণমান এবং বিশুদ্ধতা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। এমনকি ছোটখাটো অমেধ্য জমা ফিল্মগুলির বৈশিষ্ট্য এবং কর্মক্ষমতা প্রভাবিত করতে পারে। লক্ষ্যগুলি বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশনের চাহিদার প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে তা নিশ্চিত করার জন্য নির্মাতারা কঠোর মান নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা নিযুক্ত করে।

আধুনিক প্রযুক্তির অগ্রগতিতে টংস্টেন স্পাটারিং লক্ষ্যগুলি অপরিহার্য, উচ্চ-মানের পাতলা ফিল্ম তৈরি করতে সক্ষম করে যা ইলেকট্রনিক্স, সেমিকন্ডাক্টর এবং অপটিক্সের বিকাশকে চালিত করে। তাদের ক্রমাগত উন্নতি এবং উদ্ভাবন নিঃসন্দেহে এই শিল্পগুলির ভবিষ্যত গঠনে গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করবে।

টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্য এবং তাদের প্রয়োগের বিভিন্ন প্রকার

টাংস্টেন স্পটারিং টার্গেটের বিভিন্ন প্রকার রয়েছে, যার প্রতিটিরই স্বতন্ত্র বৈশিষ্ট্য এবং ব্যবহার রয়েছে।

বিশুদ্ধ টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্য: এগুলি খাঁটি টংস্টেন দিয়ে গঠিত এবং প্রায়শই এমন অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহৃত হয় যেখানে উচ্চ গলনাঙ্ক, চমৎকার তাপ পরিবাহিতা এবং কম বাষ্পের চাপ অপরিহার্য। তারা সাধারণত আন্তঃসংযোগ এবং বাধা স্তরের জন্য টাংস্টেন ফিল্ম জমা করার জন্য সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে নিযুক্ত করা হয়। উদাহরণস্বরূপ, মাইক্রোপ্রসেসর তৈরিতে, বিশুদ্ধ টাংস্টেন স্পাটারিং নির্ভরযোগ্য বৈদ্যুতিক সংযোগ তৈরি করতে সহায়তা করে।

অ্যালোয়েড টাংস্টেন স্পুটারিং টার্গেট: এই লক্ষ্যগুলি নিকেল, কোবাল্ট বা ক্রোমিয়ামের মতো অন্যান্য উপাদানগুলির সাথে মিলিত টংস্টেন ধারণ করে। নির্দিষ্ট উপাদান বৈশিষ্ট্য প্রয়োজন হলে অ্যালোয়েড টাংস্টেন লক্ষ্য ব্যবহার করা হয়। একটি উদাহরণ হল মহাকাশ শিল্পে, যেখানে একটি মিশ্রিত টাংস্টেন স্পাটারিং টার্গেট টারবাইনের উপাদানগুলিতে আবরণ তৈরি করতে ব্যবহার করা যেতে পারে যাতে তাপ প্রতিরোধের এবং পরিধানের প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি পায়।

টাংস্টেন অক্সাইড স্পুটারিং লক্ষ্য: এগুলি এমন অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহৃত হয় যেখানে অক্সাইড ফিল্মের প্রয়োজন হয়। তারা টাচস্ক্রিন ডিসপ্লে এবং সৌর কোষের জন্য স্বচ্ছ পরিবাহী অক্সাইড উৎপাদনে ব্যবহার খুঁজে পায়। অক্সাইড স্তর চূড়ান্ত পণ্যের বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা এবং অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য উন্নত করতে সাহায্য করে।

যৌগিক টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি: এগুলি একটি যৌগিক কাঠামোতে অন্যান্য উপকরণের সাথে মিলিত টংস্টেন নিয়ে গঠিত। এগুলি এমন ক্ষেত্রে ব্যবহার করা হয় যেখানে উভয় উপাদানের বৈশিষ্ট্যগুলির সংমিশ্রণ কাঙ্ক্ষিত। উদাহরণস্বরূপ, মেডিকেল ডিভাইসের আবরণে, একটি যৌগিক টাংস্টেন টার্গেট একটি জৈব সামঞ্জস্যপূর্ণ এবং টেকসই আবরণ তৈরি করতে ব্যবহার করা যেতে পারে।

টাংস্টেন স্পটারিং টার্গেটের ধরণের পছন্দ পছন্দসই ফিল্ম বৈশিষ্ট্য, সাবস্ট্রেট উপাদান এবং প্রক্রিয়াকরণের শর্ত সহ অ্যাপ্লিকেশনের নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তার উপর নির্ভর করে।

টাংস্টেন টার্গেট অ্যাপ্লিকেশন
ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে, সোলার সেল, ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট, স্বয়ংচালিত গ্লাস, মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স, মেমরি, এক্স-রে টিউব, চিকিৎসা সরঞ্জাম, গলে যাওয়া সরঞ্জাম এবং অন্যান্য পণ্যগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

টাংস্টেন টার্গেটের আকার:
ডিস্ক লক্ষ্য:
ব্যাস: 10 মিমি থেকে 360 মিমি
বেধ: 1 মিমি থেকে 10 মিমি

প্ল্যানার টার্গেট
প্রস্থ: 20 মিমি থেকে 600 মিমি
দৈর্ঘ্য: 20 মিমি থেকে 2000 মিমি
বেধ: 1 মিমি থেকে 10 মিমি

ঘূর্ণমান লক্ষ্য
বাইরের ব্যাস: 20 মিমি থেকে 400 মিমি
প্রাচীর বেধ: 1 মিমি থেকে 30 মিমি
দৈর্ঘ্য: 100 মিমি থেকে 3000 মিমি

টাংস্টেন স্পুটারিং টার্গেট স্পেসিফিকেশন:
চেহারা: রূপালী সাদা ধাতব দীপ্তি
বিশুদ্ধতা: W≥99.95%
ঘনত্ব: 19.1g/cm3 এর বেশি
সরবরাহের অবস্থা: সারফেস পলিশিং, সিএনসি মেশিন প্রসেসিং
গুণমান মান: ASTM B760-86, GB 3875-83